EUV光源的技術基本只掌握在花旗國Cymer公司手中，星光科技公司作為一家華夏公司，基本上不可能與対方達成技術合作，因為花旗國政府，就不會同意。

EUV光刻機——頂級科學與頂級製造的結合。

EUV波長只有13.5nm，穿透物體時散射吸收強度較大，這使得光刻機的光源功率要求極高，此外機器內部需是真空環境，避免空氣對EUV的吸收，透鏡和反射鏡系統也極致精密，配套的抗蝕劑和防護膜的良品率也需要更先進技術去提升。

一臺EUV光刻機重達180噸，超過10萬個零件，需要40個集裝箱運輸，安裝除錯都要超過一年時間。總之，EUV光刻機幾乎逼近物理學、材料學以及精密製造的極限。

所以EUV不僅是頂級科學的研究，也是頂級精密製造的學問。

二零一零年首發EUV光刻機，目前成為全球唯一一家EUV光刻機供應商。

二零一零年，阿斯慢首次發售概念性的EUV光刻系統NXW:3100，從而開啟光刻系統的新時代。

二零一三年，阿斯慢發售第二代EUV系統NXE:3300B，但是精度與效率不具備10奈米以下製程的生產效益。

今年又推出了第三代EUV系統NXE:3350，但仍然只是試產的性質。

歷史上，阿斯慢公司要到明年，也就是二零一六年，第一批面向製造的EUV系統NXE:3400B，才會開始批次發售，

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